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                烧结炉

                • 真空热压烧结炉
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                真空热压烧结炉

                【用途:本设备主要供大专院校、科研单位等针对金属化合物、陶瓷、无机化合物、纳米材料等在真空或保护气氛的条件下进行加压加热烧结处理,以便获得一致的产品,例如生产高精度氮化硅陶瓷轴承及氮化硅陶瓷基板等。
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                  特点:
                (1)双层SUS304炉体结构,中间通以冷却水,有效降低炉体表面温度减少高温伤害,降低对环境的影响;
                (2)框架式双立柱支承结构,采用型材焊接,整体加工,保证设备的可靠性;

                (3)采用保温材料及隔热结构,导热系数低,保温效果好,即使在很高的温度下也能有效隔绝热量,节约能耗;

                (4)温度范围广,加热元件多种可选,例如石墨、钼、钨、钽等,在合适的保护气氛中,温度可达2400℃ ,可适应不同材料的热压烧结;
                (5)多样化真空系统配置,根据工艺选择不同等级的真空度;
                (6)设有充放气系统,既可以选择在真空环境中进行热压烧结,也可以选择在惰性气氛或还原性气氛中进行热压烧结; 
                (7)人性化配置,既可以手动操作,也可以实现一键智能操作;
                (8)炉多用,可作为单纯的真空或气氛烧结炉使用;
                (9)型式多样化,立式上出料、立式侧开门出料、单向加压、双向加压等等,任意选择;
                (10)本产品接受非标定制。



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